Riber enregistre une commande majeure en Europe pour deux systèmes de production MBE 6000,

RIBER, leader mondial des équipements d'épitaxie par jets moléculaires (MBE) pour l'industrie des semi-conducteurs, annonce qu'un client européen a passé une commande majeure portant sur deux systèmes de production MBE 6000, accompagnés de services associés, pour une livraison prévue l'an prochain.

Le client est une société européenne disposant d'installations de production entièrement intégrées verticalement, spécialisée dans le développement et la fabrication d'un large portefeuille de dispositifs photoniques destinés à plusieurs marchés en forte croissance. Ceux-ci comprennent notamment la connectivité optique pour les datacenters dédiés à l'intelligence artificielle, les sources lumineuses de forte puissance pour les applications LiDAR, ainsi que des marchés médicaux, industriels et scientifiques en expansion. Cet investissement de grande envergure et à forte valeur ajoutée marque une nouvelle phase dans le développement des capacités industrielles du client, lui permettant de mieux répondre à la hausse de la demande en sources optiques à haute performance.

Cette commande comprend également un ensemble complet de services et de solutions d'amélioration de la productivité fournis par RIBER, visant à renforcer l'efficacité industrielle et l'intégration des procédés de fabrication.

Technologie de référence

Reconnue comme la technologie de référence pour la croissance épitaxiale, l'épitaxie par jets moléculaires permet un contrôle des procédés à l'échelle atomique, une grande pureté des matériaux, une excellente uniformité et une reproductibilité élevée, des caractéristiques essentielles pour garantir les performances et la fiabilité des dispositifs optoélectroniques avancés.

La plateforme MBE 6000 de RIBER est spécifiquement conçue pour répondre aux exigences de la production industrielle de structures III-V avancées. Elle offre un haut débit de production, une grande stabilité des procédés et une automatisation avancée. Sa capacité de traitement multi-wafer, pouvant atteindre jusqu'à quatre wafers de 6 pouces par cycle, permet des gains significatifs de productivité et une fabrication industrielle plus compétitive, tout en garantissant une excellente uniformité et une forte reproductibilité des dépôts nécessaires à la croissance d'hétérostructures multicouches complexes.

Les deux systèmes seront livrés en 2026...