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Soitec : nouvelle génération de substrats sur silicium

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Soitec annonce sa nouvelle génération de substrats de silicium sur isolant (SOI), la gamme Imager-SOI conçue spécialement pour la fabrication...

Soitec : nouvelle génération de substrats sur silicium
Credits Société Soitec / Christian Morel

Soitec annonce sa nouvelle génération de substrats de silicium sur isolant (SOI), la gamme Imager-SOI conçue spécialement pour la fabrication d'imageurs à face avant destinés aux applications proche infrarouge (NIR), notamment les capteurs 3D complexes.

Désormais produites en volume, les nouvelles plaques Imager-SOI de Soitec offrent une grande maturité pour répondre aux besoins des clients sur les marchés en pleine croissance des caméras 3D dédiées à la réalité augmentée (AR) et à la réalité virtuelle (VR), des systèmes de sécurité à reconnaissance faciale, des interfaces homme-machine complexes et autres nouvelles applications.

Le nouveau substrat Imager-SOI permet d'étendre simplement la portée de fonctionnement des capteurs d'image CMOS haute résolution à base de silicium dans le spectre NIR. Cette version optimisée du substrat SOI améliore le rapport signal sur bruit dans le spectre NIR.

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